誠(chéng)峰Crf等離子清洗設(shè)備去除肉眼不可見的微觀污染物質(zhì):
       Crf等離子清洗設(shè)備是由正負(fù)電荷的離子和電子也可能由一些中性原子和分子組成，宏觀上一般為電中性。等離子可以是固體的。液體和的氣體。電離的氣體是一種的氣體等離子。等離子的基本流程是在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的影響下，多種帶電顆粒物相互間的相互作用力形成各種效應(yīng)。

      Crf等離子清洗設(shè)備適用于清洗液晶面板的活化的氣體是氧等離子。等離子清洗以去除油污和有機(jī)污染物質(zhì)顆粒物，因?yàn)檠醯入x子可以氧化有機(jī)物并形成的氣體排放。增強(qiáng)偏光板粘貼的成品率，大大提高電極與導(dǎo)電膜的附著力，提高產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。
等離子清洗設(shè)備實(shí)際上是一種高精度的干式清洗設(shè)備。等離子處理設(shè)備的清洗范圍為納米級(jí)有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物質(zhì)。低壓的氣體光等離子主要用于等離子清洗設(shè)備的處理和應(yīng)用。一些非聚合物無(wú)機(jī)的氣體（Ar.N2.H2.O2等）受到高頻和低壓的刺激，形成多種活性粒子，如離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基。
         Crf等離子清洗設(shè)備的處理可分為兩類：一類是惰性氣體的等離子（如Ar.N2等）；另一類是反應(yīng)性氣體的等離子（如O2.H2等）。這些活性粒子可以與表面材料發(fā)生反應(yīng)，并刺激態(tài)分子清潔活化表面。等離子形成的原理如下：對(duì)一組電極施加射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），在交變電場(chǎng)的沖擊下，在電極相互間形成高頻交變電場(chǎng)區(qū)域內(nèi)的的氣體形成等離子。活性等離子對(duì)被清洗物體進(jìn)行表面物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，使被清洗物體的表面物質(zhì)變成顆粒物和的氣體物質(zhì)，通過抽真空排出達(dá)到清洗的目的。隨著LCD工藝水平的快速發(fā)展，LCD制造技術(shù)的極限不斷受到挑戰(zhàn)，并發(fā)展成為代表制造技術(shù)的前沿技術(shù)。在清潔行業(yè)，清潔的要求也越來越高，常規(guī)清潔不能滿足要求，等離子清洗設(shè)備更理想地解決了這些精密清潔的要求，滿足了當(dāng)今的環(huán)境保護(hù)情況。