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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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CRF真空等離子清洗機(jī)-相較常壓等離子清洗電子產(chǎn)品成品率更高

                  等離子體腐蝕是一種各向異性腐蝕技術(shù),它能保證刻蝕圖案、特殊材料的選擇性和腐蝕(效)果的一致性。在真空等離子清洗機(jī)等離子體腐蝕中,基于等離子體的物理腐蝕和基于活性基團(tuán)的化學(xué)腐蝕同時(shí)發(fā)生。觸摸屏玻璃涂層-獲得可靠的涂層(效)果,手機(jī)攝像頭涂層前處理-提高粘結(jié)強(qiáng)度,晶片/芯片焊接-提高焊接強(qiáng)度,在不破壞晶片表面性能的情況下,利用等離子體處理設(shè)備清掉表面有(機(jī))物和雜質(zhì),清掉金屬和金屬氧化 。   


       電阻保險(xiǎn)絲的結(jié)構(gòu):鍍鎳金屬、環(huán)氧樹(shù)脂、鍍鎳金屬、鍍鎳金屬表面需要等離子清洗機(jī)處理。一方面,產(chǎn)生的等離子體與肉眼看不到的有(機(jī))物反應(yīng)氣化,使鍍鎳金屬表面更加干凈;另一方面,等離子體在金屬表面形成活性基團(tuán),有利于環(huán)氧膠的密封。 
      目前對(duì)于PCB線(xiàn)路板的(活)化處理:高頻產(chǎn)生的等離子體方向性不強(qiáng),可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷內(nèi),特別適合用于線(xiàn)路板生產(chǎn)中盲孔以及微小孔的清洗;整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘內(nèi)即可完成,具有(效)率高的特點(diǎn)。 
      本發(fā)明屬于干式工藝,使用工序簡(jiǎn)單,處理質(zhì)量穩(wěn)定可靠,處理工藝簡(jiǎn)單,適于批量生產(chǎn)。與化學(xué)法處理的萘鈉液相比,它們不易合成,毒性大,保質(zhì)期短,需要根據(jù)生產(chǎn)情況配制。對(duì)于容易氧化的產(chǎn)品或電子元件、帶有線(xiàn)路板的表面,小編建議選擇CRF真空等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理。 



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