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CRF plasma 等離子清洗機

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crf電暈等離子處理機化學變化在多晶硅工業行業的應用研究

crf電暈等離子處理機化學變化在多晶硅工業行業的應用研究:
       化學變化即原子或原子團層面的重新組合,要外界提供必要的反應活化能。相對等離子體而言,工業生產的反應物質多呈密集的凝聚態。參加反應氣體大多是“高濃度”的致密層,crf電暈等離子處理機使向反應體系連續傳送大的激勵動能非常困難,某些要特大活化能的化學變化在常規技術條件下很難實現。
       化學與物理學之間聯系緊密分子中電子運動、原子間相互作用力、原子和分子的受激與電離等微觀形態,決定了物質的物化性質和化學變化能力。因而應用物理辦法使物質的狀態發生變化,可致使化學變化或干擾化學變化進行。

 電暈等離子處理機

      為此電場向反應室內的氣體分子直接傳送動能,產生具有足夠大動能的電子與氣體分子進行非彈性碰撞,將電子的幾乎全部動能傳送給參加反應的氣體分子,crf電暈等離子處理機使反應室內氣體產生大量的光子、電子、離子、自由基以及活性原子激發態原子和活性分子等為其化學變化提供極活潑的活性粒子,從而使得很多化學變化條件變得溫和提高化學變化效率。
       自然界中物質存在形式有固態、液態及氣態,其中固態的組成粒子之間的結合致密,液態次之,氣態分散。要實現物質在緊密到分散的聚合態的轉化要提供額外的動能破壞原粒子間較大的結合能。同理,當物質為氣態后,crf電暈等離子處理機繼續提供動能組成氣體物質粒子發生電離即形成等離子體。


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