近年來(lái)雖然很多企業(yè)都在使用等離子清洗系統(tǒng)，但是卻很少人知道等離子等離子清洗系統(tǒng)其他的用途是哪些？清洗技術(shù)分類(lèi)又包含哪些，這里小編就來(lái)詳細(xì)介紹一下這種便攜式等離子清洗系統(tǒng)，它包括主框架、連接主框架的背板和設(shè)置在主框架上的外保護(hù)外殼。主框架包括反應(yīng)腔、設(shè)置在反應(yīng)腔一側(cè)的調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)、電路系統(tǒng)、控制單元和控制主板。反應(yīng)腔和調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)位于主框架的上部，電路系統(tǒng)位于主框架的下部，控制單元和控制主板位于主框架的下部和電路系統(tǒng)的背部。它是一種設(shè)計(jì)緊湊、占地面積小、功能全、成本低的便攜式等離子清洗系統(tǒng)。同時(shí)（降）低了等離子清洗系統(tǒng)的使用門(mén)檻，為更多行業(yè)和科研機(jī)構(gòu)的技術(shù)研發(fā)創(chuàng)造了便捷條件。
       等離子體清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)分為幾類(lèi)？等離子體主要是經(jīng)過(guò)氣體電離行成的，包括電子、離子體、自由基、紫外線等高能物質(zhì)，具有（激）活產(chǎn)品表面的功能。接下來(lái)，CRF將與您分享:

       根據(jù)反應(yīng)類(lèi)型的不同，等離子清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)可以分為兩類(lèi):等離子體物理清洗，即利用活性顆粒和高能射線轟擊將污染物分離；等離子體化學(xué)清洗，即經(jīng)過(guò)活性顆粒與雜質(zhì)分子的反應(yīng)使污染物揮發(fā)和分離。
(1)激起頻率對(duì)等離子體的清洗類(lèi)型有一定影響
例如:超聲波等離子體(激起頻率，40kHz)的反應(yīng)大多數(shù)是物理反應(yīng)；微波等離子體(激起頻率，2.45GHz)的反應(yīng)大多數(shù)是化學(xué)反應(yīng)；射頻等離子體(激起頻率，13.56MHz)涉及物理化學(xué)雙重反應(yīng)類(lèi)型。

(2)工作氣體的類(lèi)型也影響等離子體的清潔類(lèi)型
例如:Ar2、N2等行成的等離子體常見(jiàn)應(yīng)用物理清洗，產(chǎn)品表面經(jīng)過(guò)轟擊清洗；反應(yīng)性氣體O2、H2等行成的等離子體常見(jiàn)應(yīng)用化學(xué)清洗，活性自由基與污染物(大多數(shù)是碳?xì)浠衔?發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，行成一氧化碳、二氧化碳、水等小分子，從產(chǎn)品表面去除。
(3)等離子清洗系統(tǒng)的清洗方式會(huì)影響清洗（效）果
例如:等離子體物理清洗能使產(chǎn)品表面粗糙度增大，并能提高產(chǎn)品表面的附著力；等離子體化學(xué)清洗能顯著增強(qiáng)產(chǎn)品表面氧、氮等活性基團(tuán)，能夠提高產(chǎn)品表面的潤(rùn)濕性。
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