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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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plasma等離子體-通入什么氣體可以怎么快速清洗油污


      以下以氧氣plasma等離子體去除物體表面的油污為例,說明這些功能。通過分析可以看出,plasma等離子體對油污的作用與使油污發(fā)生燃燒反應(yīng)相似;但不同之處在于,它是在低溫條件下發(fā)生的燃燒。氧等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)狀態(tài)的氧分子、電子和紫外線的共同作用下將其氧化成水和二氧化碳分子,并將其從物體表面去除。

plasma等離子體

     可見,用plasma等離子體去除油污的過程是一種使有(機(jī))大分子逐漸降解的過程,形成的是H2O和CO2小分子,這些小分子以氣體的形式被去除。另一個特征是,等離子體清洗后,物體已經(jīng)全部干燥。經(jīng)plasma等離子體處理的物體表面常形成許多新的活性基團(tuán),使物體表面(活)化,從而改變其性能,可大大提高其浸潤性和粘附性,這對許多材料很重要。所以等離子清洗有很多濕法清洗所不能與溶劑相比的優(yōu)點。

plasma等離子體

       電漿清洗機(jī)由真空室,真空泵,高頻電源,電極,氣體輸入系統(tǒng),產(chǎn)品輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。整個清潔過程大致如下;
1.plasma等離子體清洗過的產(chǎn)品送入真空并固定,啟動運(yùn)行裝置,開始排氣,使真空室的真空度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時間幾分鐘左右;
2.將等離子清洗用氣體引入真空室,保持室內(nèi)壓力穩(wěn)定。根據(jù)清洗材料的不同,氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、CF4等氣體可以結(jié)合使用;
3.電極與接地裝置在真空室中施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并由輝光放電產(chǎn)生等離子體,使真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體全部覆蓋處理過的產(chǎn)品,開始清洗作業(yè)。一般的清洗過程可持續(xù)數(shù)十秒到數(shù)十分鐘;
4.清潔后切斷電源,通過真空泵排出氣體和氣化污垢。
         大家對plasma等離子體去除物體表面的油污是不是更清楚了。


     

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