真空等離子設(shè)備PBC、半導體/LED、TSP/OLED和噴涂解決方案:
    1、真空等離子設(shè)備PBC制造解決方案：
    這實際上也是一種等離子刻蝕過程，通過轟擊物體表面來達到PBC去除表面膠質(zhì)的目地。pcb板生產(chǎn)制造商用到等離子清洗機的刻蝕系統(tǒng)去垢和刻蝕，去除鉆孔內(nèi)的絕緣層，增強產(chǎn)品質(zhì)量。
    2、真空等離子設(shè)備半導體/LED器件：
    等離子在半導體工業(yè)中的應(yīng)用是以集成電路為基礎(chǔ)的各類元件及連接線非常精細，因此在制程中極易出現(xiàn)灰塵、有機物等污染，為避免電漿在制程中產(chǎn)生的問題，在后期的制程中引入真空等離子設(shè)備進行前處理，用到等離子清洗機是為了能能夠更好地維護咱們的產(chǎn)品，很好地利用電設(shè)備去除表面的有機物、雜質(zhì)等。
    污染物質(zhì)會導致LED環(huán)氧注塑過程中氣泡的生成速度過快，從而降低產(chǎn)品質(zhì)量和使用壽命，因此，避免在封膠過程中產(chǎn)生氣泡也同樣值得關(guān)注。采用射頻等離子清洗技術(shù)，使晶片與硅片更加緊密地結(jié)合，使膠體溶液氣泡生成量大大減少，同時又能顯著增強散熱性和出光率，將等離子清洗機應(yīng)用于金屬表面去油和清潔。

    3、真空等離子設(shè)備TSP/OLED方案：
TSP:清潔觸屏的關(guān)鍵工序，增強SOI/OCR、壓層、ACF、AR/AF涂層的粘結(jié)力/涂層力。通過使用各類大氣壓等離子體形式，各類玻璃和薄膜可以勻稱放電，使表面無損傷，處理效果好。
    4、真空等離子設(shè)備噴涂解決：
    因為真空等離子設(shè)備中有很高的能量密度，所以實際上可以把具有穩(wěn)定熔融相的所有粉末轉(zhuǎn)變成致密、牢固粘附的噴涂涂層，噴涂涂層的質(zhì)量取決于噴射粉末顆粒在擊中工件表面時的瞬間熔化程度。真空等離子設(shè)備噴涂技術(shù)為現(xiàn)代涂復機增強了生產(chǎn)效率。