電漿清洗機(jī)金屬聚合物陶瓷表面清洗有哪些消耗：
        電漿清洗機(jī)（plasma）干式工序，是一個嶄新的高科技技術(shù)，運(yùn)用等離子體來實(shí)現(xiàn)常用清洗方法無法達(dá)到效果。電漿清洗機(jī)的消耗主要有以下幾個方面。
        損耗主要在真空泵維護(hù)方面，真空泵需要定期加料、更換過濾芯等。如需用反應(yīng)性氣體清洗產(chǎn)品，則氣體也算電漿清洗機(jī)耗材之一。但并非所有工序都會使用氣體，如果客戶選擇使用干泵，而非油泵，那也沒有什么壞處。基本是三個月一檢，根據(jù)狀況去補(bǔ)充，其他密封什么的，都是一年半載，根據(jù)檢查老化狀況來決定是否更換。

         總體而言，按照水溶劑的傳統(tǒng)清潔方法，盡管看起來很便宜，但卻花費(fèi)了大量的能量和環(huán)境成本。該方法的干燥過程非常緩慢，而且還需要消耗大量的能量。電漿清洗機(jī)能消除了采用濕化學(xué)方法進(jìn)行清洗時可能出現(xiàn)的各種風(fēng)險，而且在清洗過程中不產(chǎn)生廢液，采用傳統(tǒng)清洗技能的化學(xué)試劑會對環(huán)境造成很大的危害，等離子輔助清洗是一種可替代化學(xué)清洗的技能，是一種環(huán)境友好型清洗技能，既安全又環(huán)保。而且電漿清洗機(jī)的耗材與傳統(tǒng)洗滌方法相比幾乎是微不足道的。
       目前，電漿清洗機(jī)技術(shù)已廣泛應(yīng)用于金屬、聚合物和陶瓷表面的清洗處理，混合電路表面和印制電路板表面的殘余金屬的清除，生物醫(yī)學(xué)植入材料表面的清洗，硅晶片表面的清洗，以及考古文物的修復(fù)等領(lǐng)域。