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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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在芳綸材料中,誠(chéng)峰智造plasma清洗技術(shù)的作用是什么?

       誠(chéng)峰智造plasma是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),也稱為第四狀態(tài)(通常物質(zhì)是固體、液體、氣態(tài)三種狀態(tài)),是利用高壓電源在一定壓力情況下對(duì)氣體增加足以能量而產(chǎn)生的。清潔狀態(tài)中有下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子、處于活躍狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基)、離子化原子、分子、未反應(yīng)分子、原子等,但物質(zhì)總體上仍然保持電中性。

plasma

       清潔性能主要與等離子體激勵(lì)頻率有關(guān),目前國(guó)際上較常用的激勵(lì)頻率有四十KHz、13.56MHz、20MHz,采用SUNJUNE善準(zhǔn)的VP-S、VP-R和VP-Q系列三種,不同激勵(lì)頻率的等離子體對(duì)材料處理的功效各不相同,于是掌控plasma清洗的工作原理對(duì)我們深入了解等離子體技術(shù)有很大幫助。目前,等離子清洗技術(shù)在芳綸材料中有什么作用?
它具有密度低、強(qiáng)度高、韌性好、耐高溫、易加工成型等特點(diǎn),已普遍使用于航天制造行業(yè)。在一些使用場(chǎng)合,芳綸在成型后還需要與其它零件粘接,但該材料表面光滑,具有化學(xué)惰性,所制件表面不易涂膠。為達(dá)到良好的粘結(jié)功效,需進(jìn)行表面處理,目前主要采用等離子體改性法。
       用plasma清洗后,表面活性增強(qiáng),粘結(jié)效果顯著提高,并通過(guò)等離子體處理工藝基本參數(shù)的持續(xù)調(diào)優(yōu),功效會(huì)全面提高,使用范疇也會(huì)更廣。此外,芳綸復(fù)合材料制作后的表面需涂覆環(huán)氧清漆和底漆,以防止材料因吸潮而導(dǎo)致失效。復(fù)合加工過(guò)程中,在其表面涂上脫模劑,可使零件與模具順利分離,但加工后脫模劑會(huì)殘留在制件表面,不能經(jīng)濟(jì)、有效地進(jìn)行清洗,導(dǎo)致涂覆后涂層附著力差,極易脫落,影響制件使用。所以可以考慮采用等離子清洗技術(shù)經(jīng)濟(jì)、有效去除脫模劑污染物。

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